[实用新型]用于电镀污水处理的絮凝池有效

专利信息
申请号: 201620492399.4 申请日: 2016-05-26
公开(公告)号: CN205803085U 公开(公告)日: 2016-12-14
发明(设计)人: 李启国;罗宇星;柏先强;陈殷;王向东;伍莉 申请(专利权)人: 重庆财信环境资源股份有限公司
主分类号: C02F1/52 分类号: C02F1/52;C02F103/16
代理公司: 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙)50217 代理人: 黄书凯
地址: 402460 重庆市荣昌*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 实用新型公开了一种用于电镀污水处理的絮凝池,涉及污水处理领域;用于电镀污水处理的絮凝池包括絮凝池体,絮凝池体由等高的墙体围成;絮凝池体内设置有分隔墙,分隔墙将絮凝池体分隔为絮凝反应区和沉淀区;分隔墙上设置有连通絮凝反应区和沉淀区的缓冲区;絮凝反应区的上方设置絮凝剂分布管,且絮凝剂分布管上连接有絮凝剂输送管,絮凝剂分布管上设置有若干漏液孔,絮凝剂输送管上设置有阀门;絮凝反应区的侧壁上设置有进水口,沉淀区侧壁的上部设置有出水口;絮凝反应区内还设有搅拌机;本实用新型在沉淀污水时,在保证效率的同时,絮凝剂能均匀的分布在污水中,且污水中的微粒也能充分沉降。
搜索关键词: 用于 电镀 污水处理 絮凝
【主权项】:
一种用于电镀污水处理的絮凝池,包括絮凝池体,所述絮凝池体由等高的墙体围成;其特征在于,所述絮凝池体内设置有分隔墙,分隔墙将絮凝池体分隔为絮凝反应区和沉淀区;所述分隔墙上设置有连通絮凝反应区和沉淀区的缓冲区,缓冲区设置有上端开口和下端开口,上端开口位于絮凝反应区内,下端开口位于沉淀区内;所述絮凝反应区的上方设置絮凝剂分布管,且絮凝剂分布管上连接有絮凝剂输送管,絮凝剂分布管上设置有若干漏液孔,絮凝剂输送管上设置有阀门;所述絮凝反应区的侧壁上设置有进水口,所述沉淀区侧壁的上部设置有出水口;所述絮凝反应区内还设有搅拌机。
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