[实用新型]用于磁共振成像的磁体装置以及多模态成像设备有效
| 申请号： | 201620480252.3 | 申请日： | 2016-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN205787068U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 方福衣;罗威;徐烽 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/38 | 分类号： | G01R33/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201807 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了用于磁共振成像的磁体装置以及多模态成像设备，磁体装置包括主磁场线圈、梯度线圈以及体发射线圈，所述梯度线圈设置于所述主磁场线圈内侧、所述体发射线圈设置于所述梯度线圈内侧，其特征在于，在所述梯度线圈与所述体发射线圈之间设置有第一屏蔽层以及第二屏蔽层，所述第一屏蔽层靠近所述体发射线圈，所述第二屏蔽层靠近所述梯度线圈；所述体发射线圈包括两个端环、设置于两个端环之间导线，所述两个端环被布置于第一屏蔽层、第二屏蔽层之间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁共振 成像 磁体 装置 以及 多模态 设备 | ||
【主权项】：
一种用于磁共振成像的磁体装置，包括主磁场线圈、梯度线圈以及体发射线圈，所述梯度线圈设置于所述主磁场线圈内侧、所述体发射线圈设置于所述梯度线圈内侧，其特征在于，在所述梯度线圈与所述体发射线圈之间设置有第一屏蔽层以及第二屏蔽层，所述第一屏蔽层靠近所述体发射线圈，所述第二屏蔽层靠近所述梯度线圈；所述体发射线圈包括两个端环以及设置于两个端环之间导线，所述两个端环被布置于第一屏蔽层、第二屏蔽层之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联影医疗科技有限公司，未经上海联影医疗科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620480252.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
