[实用新型]X轴方向的精密位移平台有效

专利信息
申请号: 201620126014.2 申请日: 2016-02-18
公开(公告)号: CN205552003U 公开(公告)日: 2016-09-07
发明(设计)人: 虞儒杨 申请(专利权)人: 深圳市伙伴气动精密机械有限公司
主分类号: B23Q1/25 分类号: B23Q1/25;B25H1/02;G01B21/02
代理公司: 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 代理人: 向用秀
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种X轴方向的精密位移平台,包括上盖、下盖、滚珠组件、挡片和紧固螺丝组件;滚珠组件包括滚珠和保持架,滚珠均匀间隔容置在保持架上,上盖与下盖组合后,围合有圆柱形空腔,滚珠组件容置在圆柱形空腔内,且上盖在滚珠组件的作用下相对下盖运动,下盖上还设置有测微头支架,测微头固定在测微头支架上。本实用新型通过保持架内的滚珠在光滑的圆柱形空腔内滚动来实现平台的X方向直线位移;且在下盖上安装测微头来实现精密位移距离,使精确度更高,本实用新型的紧固螺丝组件起到锁紧装置的作用,实现上盖与下盖间的具体定位,设计简单且巧妙。
搜索关键词: 方向 精密 位移 平台
【主权项】:
一种X轴方向的精密位移平台,其特征在于,包括上盖、下盖、滚珠组件、挡片和紧固螺丝组件;所述滚珠组件包括滚珠和保持架,所述滚珠均匀间隔容置在保持架上,上盖与下盖组合后,围合有圆柱形空腔,所述滚珠组件容置在圆柱形空腔内,且上盖在滚珠组件的作用下相对下盖运动,所述下盖上还设置有测微头支架,所述测微头固定在测微头支架上。
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