[发明专利]涂布设备及其制备方法和复合光学膜的制备方法有效
| 申请号： | 201611233434.1 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106862000B | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 孙亚斐;马文涛 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司;张家港保税区康得菲尔实业有限公司 |
| 主分类号： | B05C1/08 | 分类号： | B05C1/08;B05C1/06;B05D7/24;G02B5/04;B32B37/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215634 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种涂布设备、涂布设备制备方法和复合光学膜的制备方法。涂布设备，包括基础层和浸润层，浸润层设置于基础层的表面，且浸润层用于浸润涂层材料并在受力时析出涂层材料。涂布设备制备方法包括：提供基础层，在基础层表面形成多空性材料的浸润层。复合光学膜的制备方法包括：提供第一光学膜，第一光学膜具有结构层；使第一光学膜经过涂布设备，涂布设备在第一光学膜的结构层上涂布涂层材料；将第一光学膜和第二光学膜通过涂层材料进行贴合以形成复合光学膜。采用本发明的涂布设备可在光学膜结构层部分表面涂布涂层材料，减少结构层功能的损失，进而提高复合光学膜整体光学效果。 | ||
| 搜索关键词： | 涂布设备 光学膜 复合光学膜 制备 涂层材料 浸润层 基础层 结构层 光学膜结构 基础层表面 析出 表面涂布 涂布涂层 整体光学 空性 受力 贴合 浸润 | ||
【主权项】：
1.一种涂布设备，包括基础层和浸润层，所述浸润层设置于所述基础层的表面，其特征在于，所述浸润层适于浸润涂层材料并在受力时析出涂层材料,所述涂布设备用于对第一光学膜的结构层表面进行涂布，所述第一光学膜为棱镜增亮膜，且棱镜为双峰结构，具有第一峰脊和第二峰脊，所述第一峰脊与第二峰脊之间形成沟槽，所述沟槽具有一深度D，所述浸润层的厚度为所述沟槽深度D的1.5～5倍且所述涂层材料仅填入沟槽中。
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