[发明专利]一种POSS交联聚芳酯紫外光固化防护涂层及其制备方法有效
申请号: | 201611214150.8 | 申请日: | 2016-12-23 |
公开(公告)号: | CN107090238B | 公开(公告)日: | 2019-06-18 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 宁波海格拉新材料科技有限公司 |
主分类号: | C09D167/02 | 分类号: | C09D167/02;C09D183/07;C09D5/08;C09D5/18;C08G63/91 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 封喜彦;胡晶 |
地址: | 315321 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种POSS交联聚芳酯紫外光固化防护涂层,其包括如下的组分及其质量含量:烯端基聚芳酯低聚物:70~99%;八乙烯基‑POSS:0.5~28%;光引发剂:0.05~2%;消泡剂:0.1~0.5%;流平剂:0.1~0.5%。本发明还公开了上述POSS交联聚芳酯紫外光固化防护涂层的制备方法。本发明POSS交联聚芳酯涂层不仅保持了聚芳酯材料优异的耐化学腐蚀性、耐候性、耐高低温性能以及良好的阻燃性能和极低的吸湿性,还因POSS的存在而具有极高的硬度和优异的防磨损性能,非常适合用于恶劣环境下基材的耐磨防腐涂层材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 poss 交联 聚芳酯 紫外 光固化 防护 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种POSS交联聚芳酯紫外光固化防护涂层,其特征在于,包括如下的组分及其质量含量:烯端基聚芳酯低聚物:70~99%;八乙烯基‑POSS:0.5~28%;光引发剂:0.05~2%;消泡剂:0.1~0.5%;流平剂:0.1~0.5%;其中,所述烯端基聚芳酯低聚物的制备方法如下:(1)制备烯端基苯甲酰氯单体:在搅拌条件下,向反应瓶内加入反应介质二氯甲烷和少量的催化剂三乙胺;将等摩尔比的对苯二甲酰氯和丙烯酸羟乙酯溶解于二氯甲烷中,并逐渐滴加至反应瓶中,反应温度维持在40~50℃;待滴液完成后,回流温度下继续反应,待反应体系无氯化氢气体放出时停止加热,继续通入氮气,直到反应体系冷却至室温,得到一种烯端基苯甲酰氯单体的二氯甲烷溶液;该烯端基苯甲酰氯单体的化学结构式为:
将芳族二酚单体和季铵盐类相转移界面缩聚催化剂,加入到碱的水溶液中,形成单体摩尔浓度为0.4~1.0mol/L的水溶液;所述芳族二酚单体的化学结构式为下面的一种:
将芳族二甲酰氯单体加入到二氯甲烷中溶解形成有机相溶液,配成单体浓度为0.2~0.8mol/L;所述芳族二甲酰氯单体为下面的一种:
(2)将芳族二甲酰氯单体的有机相溶液在快速机械搅拌下逐渐加入到芳族二酚单体和催化剂的碱的水溶液中,芳族二酚和芳族二甲酰氯的摩尔比控制在1.1~1.2,反应温度为10~50℃,待反应体系中不再有氯化氢气体逸出,向反应体系滴加步骤(1)制备的烯端基苯甲酰氯单体的二氯甲烷溶液,进行封端反应,直至反应体系不再有氯化氢气体产生,则停止滴加烯端基苯甲酰氯单体;反应结束后,进行中和、沉析、清洗、过滤、干燥,得到烯端基聚芳酯低聚物。
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C09D167-00 基于由主链中形成1个羧酸酯键的反应得到的聚酯的涂料组合物
C09D167-02 .由二羧基与二羟基化合物衍生的聚酯
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