[发明专利]模式优化装置在审
| 申请号： | 201611136515.X | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN106405978A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李进延;刘长波 | 申请（专利权）人： | 武汉长进激光技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/365 | 分类号： | G02F1/365;G02B6/02;G02B6/036 |
| 代理公司： | 武汉智盛唯佳知识产权代理事务所(普通合伙)42236 | 代理人： | 胡红林 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市东湖新技术开*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种模式优化装置，用于优化激光器输出激光的光束质量，该模式优化装置包括模式调控单元，用于滤除激光系统中的高阶模；第一匹配光纤，用于将模式调控单元与激光系统前项模场匹配；以及，第二匹配光纤，用于将模式调控单元与激光系统后项模场匹配。本发明装置在不用改变光纤激光器系统中原有的结构设计和光纤组成情况下，通过专门设计的模式调控单元，即使基模与高阶模尽可能大的损耗区分，两种调控单元的结构都能使基模的损耗<0.1dB/m，高阶模的损耗>40dB/m，从而实现便捷良好的模式优化效果。 | ||
| 搜索关键词： | 模式 优化 装置 | ||
【主权项】：
一种模式优化装置，其特征在于，包括：模式调控单元，用于滤除激光系统中的高阶模；第一匹配光纤，用于将模式调控单元与激光系统前项模场匹配；以及第二匹配光纤，用于将模式调控单元与激光系统后项模场匹配。
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