[发明专利]一种用于X荧光分析的粉末制样方法有效
| 申请号： | 201611108746.X | 申请日： | 2016-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN106501047B | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 钱庆长;李长春;谢鹏 | 申请（专利权）人： | 铜陵有色金属集团股份有限公司金冠铜业分公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N1/36;G01N23/223 |
| 代理公司： | 合肥诚兴知识产权代理有限公司 34109 | 代理人： | 汤茂盛 |
| 地址： | 244100 安徽省铜*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学分析技术领域，具体涉及一种用于X荧光分析的粉末制样方法；包括如下步骤：(1)将XRF迈拉膜盖在工作托盘上，再在XRF迈拉膜上放一只塑料环，使工作托盘完全托住塑料环；(2)往塑料环中加入粉末样品，刮平、压实，使粉末与塑料环环口平齐，得待制品；(3)将待制品放在压样机上进行压制，成型后撤去工作托盘，用透明胶带封实样片上与空气直接接触的一面，即得成品；本发明提供的制样方法简单、方便、快捷，制得的样片质量及使用效果好，在X射线照射及近真空环境的环境下依然能保持表面的平整和光滑，实际分析过程中不会开裂，从而避免污染分析腔，分析时也不会腐蚀分光晶体，大大提高了样品分析的准确性和X荧光使用的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 工作托盘 粉末制样 塑料环 拉膜 化学分析技术 塑料 避免污染 分光晶体 分析过程 粉末样品 透明胶带 样品分析 分析腔 近真空 压样机 刮平 口平 托住 压实 制样 光滑 成型 平整 压制 腐蚀 分析 | ||
【主权项】：
1.一种用于X荧光分析的粉末制样方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)提供承压托盘(10)并在承压托盘(10)上布设XRF迈拉膜(20)；(2)在XRF迈拉膜(20)上放置塑料环(30)；(3)将待测样品粉末(40)加入塑料环(30)内，填实、刮平；(4)将承压托盘(10)连同塑料环(30)及其内待测样品粉末(40)一起放置于压机的工作台，压机压头压下，塑料环(30)连同其内待测样品粉末(40)被压制成盘饼状；(5)将XRF迈拉膜(20)连同压制成盘饼状的塑料环(30)和待测样品粉末(40)一起与承压托盘(10)分离；(6)在待测样品粉末(40)显露面上布设透明胶，即得待分析样片。
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