[发明专利]一种基于硼酸基团的印迹分子聚合物及分子印迹电化学传感器有效
申请号: | 201611080027.1 | 申请日: | 2016-11-30 |
公开(公告)号: | CN106645324B | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 葛春华;邢天竹;张媛媛;关宏宇;张向东 | 申请(专利权)人: | 辽宁大学 |
主分类号: | G01N27/26 | 分类号: | G01N27/26;G01N27/30 |
代理公司: | 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 | 代理人: | 金春华 |
地址: | 110000 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于硼酸基团的印迹分子聚合物及分子印迹电化学传感器。所述的印迹分子聚合物由苯硼酸类化合物0.02‑0.2mol/L、聚合物单体1.0‑2.0mol/L、聚合物交联剂0.1‑0.3mol/L、自由基引发剂0.1‑0.5mol/L、目标分子0.02‑0.2mol/L和水余量制备。将印迹分子聚合物,均匀涂在金属Pt电极上,之后将Pt电极放入干燥箱内,50℃聚合形成无色透明聚合物薄膜,自然冷却至室温后放入HCl溶液中,浸泡30‑40分钟,取出,用蒸馏水洗涤,干燥,得分子印迹电化学传感器。本发明制备过程简单,可快速简便识别出待测溶液中的葡萄糖分子,准确性率高。 | ||
搜索关键词: | 印迹分子聚合物 电化学传感器 分子印迹 硼酸基团 放入 无色透明聚合物 聚合物交联剂 自由基引发剂 聚合物单体 葡萄糖分子 蒸馏水洗涤 待测溶液 类化合物 目标分子 制备过程 苯硼酸 水余量 薄膜 制备 聚合 浸泡 取出 金属 | ||
【主权项】:
1.一种基于硼酸基团的印迹分子聚合物,其特征在于,所述的基于硼酸基团的印迹分子聚合物由苯硼酸类化合物0.02‑0.2mol/L、聚合物单体1.0‑2.0mol/L、聚合物交联剂0.1‑0.3mol/L、自由基引发剂0.1‑0.5mol/L、目标分子0.02‑0.2mol/L和水余量制成;所述的苯硼酸类化合物为3‑丙烯酰胺基苯硼酸或3‑(甲基丙烯酰胺基)苯硼酸;所述的聚合物单体为丙烯酰胺;所述的聚合物交联剂为N,N‑亚甲基双丙烯酰胺;所述的自由基引发剂为过硫酸铵;所述的目标分子为葡萄糖。
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