[发明专利]光响应形状记忆复合材料及其制备方法以及形状记忆材料的应用方法有效
| 申请号： | 201611056427.9 | 申请日： | 2016-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN106589438B | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 吉岩;乔娟;危岩;杨洋;马福生 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C08J7/06 | 分类号： | C08J7/06;C08J3/24;C08L63/00 |
| 代理公司： | 11606 北京华进京联知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王赛 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光响应形状记忆复合材料，包括形状记忆材料层，以及与该形状记忆材料层层叠设置的光热转换层，该光热转换层包括钙钛矿结构材料。一种光响应形状记忆复合材料的制备方法，包括提供形状记忆材料层；以及在该形状记忆材料层上层叠设置光热转换层，该光热转换层包括钙钛矿结构材料。一种形状记忆材料的应用方法，包括提供形状记忆复合材料，该形状记忆复合材料处于光响应状态；以及通过去除该第一光热转换层，使该形状记忆复合材料处于光惰性状态。 | ||
| 搜索关键词： | 形状记忆复合材料 形状记忆材料 光热转换层 光响应 钙钛矿结构材料 惰性状态 去除 制备 上层 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光响应形状记忆复合材料，包括形状记忆材料层，其特征在于，该形状记忆材料层能够根据温度的改变在至少两种预定状态之间变化，所述光响应形状记忆复合材料还包括与该形状记忆材料层层叠设置的光热转换层，该光热转换层包括钙钛矿结构材料，该钙钛矿结构材料为CH
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