[发明专利]一种在溶液中制备贵金属孤原子的方法及应用有效

专利信息
申请号: 201611042175.4 申请日: 2016-11-11
公开(公告)号: CN108067632B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 张宗超;刘凯瑞 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: B22F9/24 分类号: B22F9/24
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 郑虹
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种在溶液中制备贵金属孤原子的方法及应用,该方法将保护剂、贵金属化合物、还原剂和溶剂充分混合。在一定温度下,反应得到贵金属孤原子,从而得到能够稳定存在于溶液中的贵金属孤原子。将贵金属孤原子溶液通过浸渍法负载在固体介质上,可以形成贵金属孤原子‑固体介质新材料。以单原子溶液为原料,可制备合金材料、催化剂等。本发明首次实现了在溶液相中还原态单原子的制备。相对于传统的溶液相中金属材料的合成而言,避免了金属纳米粒子的形成,得到以单个金属原子形式存在的还原态单原子溶液。相对于固体表面负载的单原子材料而言,其具有载量高,稳定性好的特点。
搜索关键词: 贵金属 单原子 制备 固体介质 还原态 贵金属化合物 金属纳米粒子 浸渍法负载 金属材料 充分混合 固体表面 合金材料 金属原子 原子溶液 保护剂 传统的 还原剂 溶剂 催化剂 应用 合成
【主权项】:
1.一种在溶液中制备贵金属孤原子的方法,其特征在于按照以下步骤进行:将保护剂,贵金属化合物前驱体和还原剂、溶剂按照一定比例充分混合;在一定温度下,反应得到贵金属孤原子;所述保护剂为聚硅氧烷‑聚乙二醇嵌段共聚物;所述的还原剂和贵金属化合物前驱体的物质的量比为:1‑107:1;所述的还原剂和溶剂的物质的量比例变化范围为:1:105‑30:1;所述的温度范围为:‑70‑200℃。
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