[发明专利]一种基于酯化反应制备大面积少层氧化石墨烯薄膜的方法有效
申请号: | 201611027663.8 | 申请日: | 2016-11-22 |
公开(公告)号: | CN106744826B | 公开(公告)日: | 2018-12-14 |
发明(设计)人: | 孙丽晶;王丽娟;范思大;彭亚茹;张沛沛;张梁;闫闯;孙洋;李占国 | 申请(专利权)人: | 长春工业大学 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 130012 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出一种基于酯化反应制备大面积少层氧化石墨烯薄膜的方法。利用酯化反应将片状氧化石墨烯的羧基和羟基连接起来,获得大面积的少层氧化石墨烯薄膜,解决了制备大面积的单层或少层石墨烯薄膜的困难。选用六水三氯化铁或磷钨酸水合物为催化剂,在98℃水浴中酯化反应60 min,离心10 min后得到下层沉淀物便是连接完成的氧化石墨烯,通过滴涂在洁净的SiO2衬底烘干,制备氧化石墨烯薄膜。获得氧化石墨烯薄膜的厚度为2~3 nm,为2~3层,连接起来的片层尺寸为13μm×11μm,相对反应前2.5μm×3.0μm有很大地增加,为制备大面积石墨烯薄膜提供了依据。 | ||
搜索关键词: | 氧化石墨烯薄膜 酯化反应 少层 制备 氧化石墨烯 大面积石墨烯薄膜 磷钨酸水合物 六水三氯化铁 制备氧化石墨 石墨烯薄膜 下层沉淀物 烘干 衬底 单层 滴涂 片层 水浴 羟基 羧基 催化剂 薄膜 洁净 | ||
【主权项】:
1.一种基于酯化反应制备大面积少层氧化石墨烯薄膜的方法,具体步骤包括以下内容:a.采用改进Hummers法制备胶状氧化石墨烯,配置一定比例的胶状氧化石墨烯和催化剂的水溶液,超声处理30min;b.将氧化石墨烯和催化剂的水溶液置于水浴中加热至98℃,60min;c.向水浴后的反应物加去离子水稀释,在8000rpm下离心10min,取下层沉淀物;d.向沉淀物中加入适量的无水乙醇进行稀释,取适量稀释后的反应物滴涂在洁净的SiO2衬底上,置于80℃烘箱中15min,制备氧化石墨烯薄膜;其中,催化剂选用六水三氯化铁或磷钨酸水合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长春工业大学,未经长春工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611027663.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。