[发明专利]一种基于交叉相位调制的贝塞尔光束的获得方法及装置有效
申请号: | 201610945305.9 | 申请日: | 2016-11-02 |
公开(公告)号: | CN106569369B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 程雪梅;陈浩伟;任兆玉;张倩;白晋涛 | 申请(专利权)人: | 西北大学 |
主分类号: | G02F1/35 | 分类号: | G02F1/35 |
代理公司: | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人: | 王芳 |
地址: | 710069 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开一种基于交叉相位调制的贝塞尔光束的获得方法及装置:步骤1,将调制激光束聚焦于非线性介质中;步骤2,将被调制激光束反向共线入射于同一非线性介质后,使其进入成像装置;步骤3,调节调制激光束的光强直至位于远场的成像装置上出现明显的中心亮斑和同心圆环图样;步骤4,调整聚焦透镜的焦距或非线性介质的位置即得中心亮斑尺寸不同的贝塞尔光束。本发明的方法具有结构简单、操作容易、中心亮斑尺寸可控的优点。 | ||
搜索关键词: | 非线性介质 亮斑 调制 交叉相位调制 成像装置 激光束 激光束聚焦 尺寸可控 聚焦透镜 同心圆环 焦距 图样 共线 光强 入射 远场 | ||
【主权项】:
1.一种基于交叉相位调制的获得贝塞尔光束的装置,包括聚焦透镜、第一半波片和第二半波片,其特征在于,还包括第一偏分光立方体、第二偏分光立方体、非线性介质和成像装置,所述的聚焦透镜、第一半波片、第一偏振分光立方体、非线性介质和第二偏振分光立方体依次设置在同一光路上,所述的成像装置设置在第一偏振分光立方体的正下方,所述的第二半波片设置在第二偏振分光立方体的正上方;所述非线性介质是指选自能够产生Kerr效应的非线性介质;所述能够产生Kerr效应的非线性介质,选自非线性折射率在10‑16cm2/W数量级以上的有机物、铅玻璃或原子蒸汽。
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