[发明专利]基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法

摘要

本发明公开了一种基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法，包括样品仓，所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源，氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接，微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统及方法针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁，同时不对膜层造成损伤，保持光学元件的性能符合要求，不会有残留物，也不会造成二次污染。

主权项

1.基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统，其特征在于，包括样品仓(4)，所述样品仓(4)外部设置有微波源(5)、真空机构、气体流量控制系统(2)、氧气源(1)和惰性气体气源(3)，氧气源(1)和惰性气体气源(3)均与气体流量控制系统(2)连接，微波源(5)、真空机构和气体流量控制系统(2)均与样品仓(4)内部连通；所述真空机构包括真空泵(6)、插板阀(7)、真空计(8)和真空规(10)，真空泵(6)连通有波纹管(9)，且波纹管(9)与样品仓(4)内部连通，插板阀(7)设置在波纹管(9)和真空泵(6)之间并同时与波纹管(9)和真空泵(6)连接，并且通过插板阀(7)的开合对波纹管(9)内部的开闭程度进行控制，真空规(10)设置在真空泵(6)和样品仓(4)之间，且真空规(10)的一端设置在波纹管(9)中，真空规(10)与真空计(8)连接，且插板阀(7)与真空规(10)连接；所述惰性气体气源(3)为氦气源。