[发明专利]含POSS纳米杂化聚合物磷光材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610849356.1 申请日: 2016-09-26
公开(公告)号: CN106432636B 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 林美娟;凌启淡;罗才平 申请(专利权)人: 福建师范大学
主分类号: C08F290/06 分类号: C08F290/06;C08F226/12;C08F230/04;C09K11/06;H01L51/54;B82Y30/00
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 350300 福建省福州市福清*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种含POSS纳米杂化聚合物磷光材料及其制备方法。首先制备得到3‑(4‑乙烯基苄基)‑2,4‑戊二酮、氯桥联铱二聚体,将氯桥联铱二聚体与3‑(4‑乙烯基苄基)‑2,4‑戊二酮反应制备铱配合物单体,最后将乙烯基咔唑单体、铱配合物单体、POSS单体和引发剂按照摩尔比溶于四氢呋喃中聚合反应,无水甲醇中析出,再经索提纯化,得到含POSS纳米杂化聚合物磷光材料。将POSS引入铱配合物/聚咔唑体系中能减少磷光材料的浓度猝灭和高电流密度下的T‑T湮灭,使材料具有优良的发光性能和稳定性能,同时该材料具有良好的溶解性、成膜性,可用于电致发光、光致发光、化学与生物传感器等领域。
搜索关键词: 磷光材料 制备 杂化聚合物 铱配合物单体 乙烯基苄基 二聚体 二酮 氯桥 生物传感器 乙烯基咔唑 析出 电致发光 发光性能 光致发光 聚合反应 浓度猝灭 四氢呋喃 稳定性能 无水甲醇 铱配合物 成膜性 摩尔比 引发剂 提纯 可用 咔唑 引入
【主权项】:
1.一种含POSS纳米杂化聚合物磷光材料,其特征在于,所述的含POSS纳米杂化聚合物磷光材料具有如下的结构式:其中:R为苯基、乙基、异丙基、丁基或辛基;R1为C1‑C10烷基;为环金属配体;x为乙烯基咔唑单体单元数;y为铱配合物单体单元数;z为POSS单体单元数;x:y:z=100:0.1~10:0.1~10,数均分子量为5000‑30000。
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