[发明专利]适用于高地应力条件下的地下洞室群结构及其施工工艺有效
| 申请号： | 201610801715.6 | 申请日： | 2016-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN106194222B | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 幸享林;肖平西;张勇;廖成刚;彭薇薇 | 申请（专利权）人： | 中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | E21D13/00 | 分类号： | E21D13/00 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 许泽伟 |
| 地址： | 610072 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于高地应力条件下的地下洞室群结构及其施工工艺，属于地下洞室工程技术领域，提供一种可以在高地应力条件下设置地下洞室群的适用于高地应力条件下的地下洞室群结构及其施工工艺。本发明通过设置相应的应力解除洞，这样可在一定程度上对岩体的内应力进行破坏；进而解除或者削弱岩体的地应力；可将洞室群主体建筑进行有效的隔离，使其受到岩体内应力的影响更小；进而实现了在高地应力的条件下也可进行地下洞室群的布置；使得地下洞室群的适用范围更广，尤其适用于我国西部地区的地下洞室工程项目。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 高地 应力 条件下 地下 洞室群 结构 及其 施工工艺 | ||
【主权项】：
1.适用于高地应力条件下的地下洞室群结构，包括洞室群主体建筑(1)，所述洞室群主体建筑(1)设置于高地应力的岩体内，所述高地应力岩体的岩石强度应力比小于4，其特征在于：还包括应力解除洞(2)，所述应力解除洞(2)至少设置在洞室群主体建筑(1)上方的岩体内；所述应力解除洞(2)设置有多个，多个应力解除洞(2)彼此平行的间隔设置；在相邻的两个应力解除洞(2)之间设置有连通该两个应力解除洞(2)的应力解除孔(6)。
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