[发明专利]一种光敏复合薄膜材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201610793922.1 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106398208B 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 王忠良;张瑞丽;贾茜;王永东 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: C08L79/08 分类号: C08L79/08;C08L33/26;C08L71/02;C08L39/06;C08K3/22;C08K3/08;C08K7/00;G11B7/251;G11B7/26
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 710071 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种光敏复合薄膜材料及其制备方法和应用,多金属氧化物和有机物;所述有机物高分子溶液浓度为10‑3‑10‑2M;多金属氧化物溶液的浓度为10‑3‑10‑2M;所述制备方法包括:利用水热法合成多金属氧化物纳米结构;将清洗的基片浸泡在高分子溶液中,使基片表面吸附一层高分子薄膜;将吸附有高分子薄膜的基片浸入含有多金属氧化物纳米结构的溶液中浸泡,使其吸附一层多金属氧化物薄膜;重复多次制备所需薄膜复合材料。本发明电子传导速率大大提升,提高了材料的光响应速度,且光敏效果可以通过改变Mo的掺杂量来进行调节。本发明操作简单快捷,而且得到的复合薄膜具有快速光响应和高对比度的特点,在快速精确地信息存储中有极大地应用前景。
搜索关键词: 多金属氧化物 吸附 制备方法和应用 光敏复合薄膜 高分子溶液 纳米结构 有机物 光响应 制备 浸泡 薄膜复合材料 高分子薄膜 水热法合成 浸入 电子传导 分子薄膜 复合薄膜 高对比度 基片表面 信息存储 掺杂量 光敏 薄膜 清洗 重复 应用
【主权项】:
1.一种光敏复合薄膜材料,其特征在于,所述光敏复合薄膜材料包括:多金属氧化物和有机物;有机物是高分子;所述有机物高分子溶液浓度为10‑3‑10‑2M;多金属氧化物溶液的浓度为10‑3‑10‑2M;所述光敏复合薄膜材料的制备方法包括以下步骤:步骤一,利用水热法合成多金属氧化物纳米结构;步骤二,将清洗的基片浸泡在高分子溶液中,使基片表面吸附一层高分子薄膜;步骤三,将吸附有高分子薄膜的基片浸入含有多金属氧化物纳米结构的溶液中浸泡,使其吸附一层多金属氧化物薄膜;步骤四,重复步骤二和步骤三多次制备所需薄膜复合材料;所述多金属氧化物为钨青铜、钼掺杂的钨青铜、六方相三氧化钨中的任意一种;纳米结构为纳米棒、纳米颗粒、纳米片中的任意一种。
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