[发明专利]用于真空冶炼炉的蒸发盘及其蒸发盘组有效

专利信息
申请号: 201610657728.0 申请日: 2016-08-12
公开(公告)号: CN106119562B 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 蓝川华;黄存文 申请(专利权)人: 永兴县億翔环保科技有限公司
主分类号: C22B9/02 分类号: C22B9/02;C22B9/04;B01D3/00;B01D3/10
代理公司: 郴州大天知识产权事务所(普通合伙) 43212 代理人: 徐起堂
地址: 423300 湖南省郴*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用于真空冶炼炉的蒸发盘,蒸发盘底面边沿设有一圈侧壁向外的台阶,该底面台阶侧壁面正投影位于盛液槽外沿内侧壁面内侧。蒸发盘组,由二个以上蒸发盘叠堆而成,位于上方的蒸发盘底面边沿设有一圈侧壁向外、平面向下的凹陷台阶,该底面凹陷台阶侧壁面位于下方蒸发盘盛液槽外沿内侧壁面内侧,该二个面相距2‑7毫米形成间隙;所述上方蒸发盘底面低于下方蒸发盘盛液槽外沿上平面;所述上方蒸发盘底面边沿凹陷台阶下平面位于下方蒸发盘盛液槽外沿上平面上方,该二个面相距2‑7毫米形成间隙;所述间隙形成蒸汽出口通道。 1
搜索关键词: 蒸发盘 盛液槽 外沿 凹陷台阶 底面边沿 底面 真空冶炼炉 内侧壁面 上平面 侧壁 蒸汽出口通道 相距 间隙形成 台阶侧壁 侧壁面 下平面 正投影 叠堆
【主权项】:
1.一种用于真空冶炼炉的蒸发盘组,由二个以上蒸发盘叠堆组合而成,其特征在于:位于上方的蒸发盘底面边沿设有一圈侧壁向外、平面向下的凹陷台阶,该底面凹陷台阶侧壁面(1)位于下方蒸发盘盛液槽外沿内侧壁面(2)内侧,该二个面相距2‑7毫米形成间隙;所述上方蒸发盘底面低于下方蒸发盘盛液槽外沿上平面;所述蒸发盘盛液槽外沿内侧设有一圈凹陷台阶,所述蒸发盘底面凹陷台阶侧壁面(1)位于盛液槽外沿凹陷台阶内侧壁面(5)内侧,该二个面相距2‑7毫米形成间隙;所述上方蒸发盘底面边沿凹陷台阶与下方蒸发盘盛液槽外沿凹陷台阶相对应;所述上方蒸发盘底面边沿凹陷台阶下平面(4)位于下方蒸发盘盛液槽外沿上平面(3)上方,该二个面相距2‑7毫米形成间隙;所述上方蒸发盘底面位于下方蒸发盘盛液槽外沿凹陷台阶内平面(6)上方,该二个面相距2‑7毫米形成间隙;所述间隙形成蒸汽出口通道;所述蒸发盘底面设有至少一圈凹槽(8);所述蒸发盘盛液槽外沿外侧壁向外设有一圈用于支撑保温套的突沿(7)。

2.根据权利要求1所述蒸发盘组,其特征在于:所述蒸发盘底面凹陷台阶侧壁与盛液槽外沿凹陷台阶内侧壁高度相等。

3.根据权利要求1所述蒸发盘组,其特征在于:所述间隙尺寸相等。

4.根据权利要求1所述蒸发盘组,其特征在于:所述蒸发盘盛液槽外沿上平面向内侧倾斜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于永兴县億翔环保科技有限公司,未经永兴县億翔环保科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610657728.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top