[发明专利]一种陶瓷抛光机能耗分布状态仿真的方法及系统有效
申请号: | 201610656809.9 | 申请日: | 2016-08-11 |
公开(公告)号: | CN106250647B | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 李洪丞;朱成就;杨海东;李骏 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 罗满<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
地址: | 510062 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了陶瓷抛光机能耗分布状态仿真的方法及系统,该方法包括:确定预设设备参数及操作参数;根据预设设备参数对磨块和瓷砖进行离散化形成N个磨粒及预定个数离散单元,确定各磨粒及各离散单元的坐标;分别计算各磨粒对应的预定时间间隔及进给运动能耗、横向摆动能耗及旋转运动能耗,将各磨粒的三种能耗相加得到各磨粒在对应预定时间间隔内的总能耗;分别计算各磨粒对应的运动轨迹方程,根据运动轨迹方程确定在对应的每个预定时间间隔各磨粒对应的位置坐标,在位置坐标对应的离散单元中累加对应磨粒在对应预定时间间隔内的总能耗,输出能耗分布;能够实现陶瓷抛光机能耗动态特性的仿真分析,支撑陶瓷抛光机能效智能分析与优化决策。 | ||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 抛光机 能耗 分布 状态 仿真 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种陶瓷抛光机能耗分布状态仿真的方法,其特征在于,包括:/n根据用户的选择及知识数据库确定预设设备参数及操作参数;/n根据所述预设设备参数对磨块进行离散化处理形成N个磨粒,对瓷砖进行离散化处理形成预定个数个离散单元,并建立坐标系确定各所述磨粒及各所述离散单元的坐标;/n分别计算各所述磨粒对应的预定时间间隔及进给运动的能耗、横向摆动的能耗及旋转运动的能耗,并将各所述磨粒的三种能耗相加得到各所述磨粒在对应预定时间间隔内的总能耗;/n分别计算各所述磨粒对应的运动轨迹方程,根据所述运动轨迹方程确定在对应的每个预定时间间隔各磨粒对应的位置坐标,并在所述位置坐标对应的离散单元中累加对应磨粒在对应预定时间间隔内的总能耗,输出能耗分布;/n其中,根据所述预设设备参数对磨块进行离散化处理形成N个磨粒,对瓷砖进行离散化处理形成预定个数个离散单元,并建立坐标系确定各所述磨粒及各所述离散单元的坐标,包括:/n根据磨块尺寸将磨块均匀离散化为N个磨粒,根据瓷砖尺寸将瓷砖均匀离散化为H×K个离散单元;/n以瓷砖前进的方向作为 轴,以磨块中磨头横向摆动方向为 轴建立直角坐标系;/n设置磨头进入瓷砖前的中心点坐标为C(x,y),并根据 计算出各磨粒P(xi,yi)的坐标;其中,r为磨粒到磨头中心点C的距离,θ为 轴与r的夹角;/n将离散单元用矩阵R表示,设置左下角的离散单元的坐标为(1,1),根据离散个数H×K及瓷砖尺寸n×n确定各离散单元R(i,j)的坐标为 /n
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