[发明专利]一种显微成像景深延拓的方法及显微成像装置在审
| 申请号： | 201610634090.9 | 申请日： | 2016-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN106338523A | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 武东城;刘江;苗二龙;高松涛;张敏;隋永新;杨怀江 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/958 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)44316 | 代理人： | 郝明琴 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光学元件疵病检测中显微成像景深延拓的方法，该方法包括在显微成像装置中加入光瞳滤波器；对加入了光瞳滤波器后的显微成像装置进行分析，并根据分析结果对光瞳滤波器的参数进行选择；根据至少一个评价因素对光瞳滤波器的参数进行优化；以及根据优化后的参数对光瞳滤波器进行设置，通过该具有优化参数的光瞳滤波器而延拓显微成像装置的景深。本发明还提供一种显微成像装置。通过本发明的显微成像景深延拓的方法及显微成像装置，可以显著地延拓显微成像装置的景深，满足了高精度光学元件疵病检测的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显微 成像 景深 延拓 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种显微成像景深延拓的方法，用于光学元件疵病检测中的显微成像的景深延拓，其特征在于，所述方法包括：在显微成像装置中加入光瞳滤波器；对加入了光瞳滤波器后的显微成像装置进行分析，并根据分析结果对光瞳滤波器的参数进行选择；根据至少一个评价因素对光瞳滤波器的参数进行优化；以及根据优化后的参数对光瞳滤波器进行设置，通过所述具有优化参数的光瞳滤波器而延拓显微成像装置的景深。
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