[发明专利]一种纳米壁状硫化亚铜薄膜的制备工艺在审

专利信息
申请号: 201610594505.4 申请日: 2016-07-26
公开(公告)号: CN106048692A 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: 于美;孟燕兵;刘建华;章锦丹;李松梅 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C25D11/34 分类号: C25D11/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公布了一种纳米壁硫化亚铜薄膜的制备方法,先将铜基体在丙酮、乙醇和水中超声清洗,随后在盐酸溶液中进行活化并放置备用;配制Na2S和NaOH的混合溶液作为阳极氧化液;以Pt电极作为阴极,铜基体作为阳极,放置在溶液中,在0.5‑1.5V的电压下进行阳极氧化反应,反应时间为1‑30min。该方法制备出的纳米壁硫化亚铜薄膜均一致密,制备工艺简单,制备条件温和,环境友好,成本低廉。
搜索关键词: 一种 纳米 硫化 薄膜 制备 工艺
【主权项】:
一种纳米壁状硫化亚铜薄膜的制备方法,其特征在于:1)将铜基体在丙酮,乙醇和去离子水中各超声波清洗10‑20min,再在0.1‑1mol/l的盐酸溶液中活化5‑15min,吹干待用;2)配制Na2S溶液,使得其浓度为0.1‑1mol/l,并在其中加入一定量的NaOH,浓度为0.01‑0.1mol/l,作为阳极氧化液;3)以Pt电极作为阴极,铜基体作为阳极,在电压0.5‑1.5V下,阳极氧化1‑30min;4)将得到的铜基体在40‑60℃干燥箱中干燥30‑60min。
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