[发明专利]放大光学系统、光学单元和投影仪设备有效
| 申请号： | 201610569659.8 | 申请日： | 2014-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN105988207B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 高野洋平 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 卢亚静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明公开了放大光学系统、光学单元和投影仪设备。放大光学系统放大影像并投影被放大的影像，其包括：折射光学系统，包括多个透镜；和反射表面，反射已经通过折射光学系统的光，其中，在折射光学系统和反射表面之间形成中间影像；并且，投影光学系统满足“2.5 | ||
| 搜索关键词： | 折射光学系统 放大光学系统 影像 投影仪设备 反射表面 光学单元 聚焦状态 投影影像 投影光学系统 透镜 放大影像 焦距 近轴 反射 投影 放大 | ||
【主权项】：
1.一种放大光学系统，放大影像并投影被放大的影像，该放大光学系统包括：折射光学系统，包括多个透镜；和反射表面，反射已经通过折射光学系统的光，其中在折射光学系统和反射表面之间形成中间影像；并且投影光学系统满足“2.5
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