[发明专利]成像光学系统、光学设备以及图像投影设备有效
| 申请号： | 201610439644.X | 申请日： | 2016-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN106257318B | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 大出隆史;猪子和宏 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种成像光学系统、光学设备以及图像投影设备。成像光学系统使放大侧共轭面和缩小侧共轭面中的一个共轭面上的像成像于另一个共轭面。成像光学系统从缩小侧共轭面至放大侧共轭面依次具有折射光学系统和反射光学系统。折射光学系统在该折射光学系统的内部的中间成像位置形成中间实像。反射光学系统包括配置在最靠近放大侧共轭面的凸面镜。满足预定的条件表达式。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 光学 设备 以及 图像 投影设备 | ||
【主权项】：
1.一种成像光学系统，用于使放大侧共轭面和缩小侧共轭面中的一个共轭面上的像成像于另一个共轭面上，所述成像光学系统从所述缩小侧共轭面至所述放大侧共轭面依次包括：折射光学系统；以及反射光学系统，所述成像光学系统的特征在于，所述折射光学系统在所述折射光学系统的内部的中间成像位置处形成中间实像，所述反射光学系统包括被配置为最靠近所述放大侧共轭面的凸面镜，以及满足下面的条件表达式：0.01≤│fL/fM│≤0.50其中，fL是所述折射光学系统的焦距，以及fM是所述反射光学系统的焦距。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610439644.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于端面图像自相关的光纤保偏熔接旋转角对准方法
- 下一篇：显示装置
