[发明专利]一种还原氧化石墨烯/BiVO4为光引发剂的原子转移自由基聚合反应制备聚合物的方法有效
| 申请号： | 201610375888.6 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN106046222B | 公开（公告）日： | 2018-02-06 |
| 发明（设计）人： | 王国祥 | 申请（专利权）人： | 湖南理工学院 |
| 主分类号： | C08F120/14 | 分类号： | C08F120/14;C08F112/08;C08F120/28;C08F2/48;C08F4/76 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 414006 湖南省岳*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种还原氧化石墨烯/BiVO4为光引发剂的原子转移自由基聚合反应制备聚合物的方法。具体的说，采用还原氧化石墨烯/BiVO4为光引发剂引发甲基丙烯酸甲酯类、苯乙烯类、丙烯酸甲酯类单体进行原子转移自由基聚合反应。该反应可以在室温下进行，聚合反应具有活性聚合特征，本发明提供一种工艺简单，成本低，节能的原子转移自由基聚合技术。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 还原 氧化 石墨 bivo4 引发 原子 转移 自由基 聚合 反应 制备 聚合物 方法 | ||
【主权项】：
一种还原氧化石墨烯/BiVO4为光引发剂的原子转移自由基聚合反应制备聚合物的方法，其特征在于将可进行自由基聚合的单体、原子转移自由基引发剂、金属催化剂、配体、光引发剂置于三口反应烧瓶中，超声分散，自然光或者紫外光照射下进行原子转移自由基聚合反应，反应结束后，得到分子量及分子量分布可以控制的聚合物，所述的光引发剂为还原氧化石墨烯/BiVO4。
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