[发明专利]一种透明光电催化用叉指电极及其加工方法有效
申请号: | 201610365585.6 | 申请日: | 2016-05-28 |
公开(公告)号: | CN106098383B | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 黄兴桥;崔皓博 | 申请(专利权)人: | 惠州市力道电子材料有限公司 |
主分类号: | H01G9/20 | 分类号: | H01G9/20;H01G9/042;G01N27/30 |
代理公司: | 惠州市超越知识产权代理事务所(普通合伙) 44349 | 代理人: | 鲁慧波 |
地址: | 516000 广东省惠*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种透明光电催化用叉指电极及其加工方法,该叉指电极从下往上依次为:基板、缓冲层和导电层;其中,所述基板由透明材质的材料组成;所述的导电层为金属层。本发明所述透明光电催化用叉指电极具有导电性能好、电信号基线稳定、光电催化效率高、可多次使用的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 透明 光电 催化 用叉指 电极 及其 加工 方法 | ||
【主权项】:
1.一种透明光电催化用叉指电极加工方法,其特征在于,所述透明光电催化用叉指电极加工方法包括:S1:选择透明材质的材料作为基板,按照需求将基板裁成相应尺寸;S2:利用磁控溅射的方法,在裁好的基板表面镀上Ti、Mo、W 中的至少两种金属材料,形成缓冲层;S3:电镀金属到所述缓冲层表面形成导电层;S4:将线路图形转移到所述导电层;S5:蚀刻液中蚀刻处理,获得透明光电催化用叉指电极;步骤S2中的磁控溅射方法具体为:溅射的靶材为高纯金属,金属的直径为 25‑45mm、厚度为3‑6mm;靶和基板之间的距离为10‑16cm,工作气体为99. 99wt% 的高纯氮气和99. 99wt% 的高纯氩气,分别使用质量流量计控制;基板在放入真空室之前,分别用丙酮、酒精、去离子水超声清洗,溅射前将真空室气压抽到1×10‑6‑4×10‑6Pa,并充入氩气预溅射12‑17min以清洗靶面;随后通入氮气,控制总溅射气压在1×10‑3‑3×10‑3 Pa,控制氮气与氩气的比例为2:1,溅射功率控制在1Kw‑1.25Kw,溅射时间为0.5‑1.5h。
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