[发明专利]用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法有效
| 申请号： | 201610363881.2 | 申请日： | 2016-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN106092861B | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 贺涛;王凯;褚卫国;张先锋 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G01N15/10 | 分类号： | G01N15/10;G01N21/21 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法，利用光谱椭偏仪，采用有效介质近似层和四步拟合方法，包括：在衬底上形成纳米颗粒材料层，得到第一模型，对纳米颗粒材料层进行直接拟合，得到初步实验结果；在纳米颗粒材料层上形成纳米颗粒材料与空气的混合层，使得到的第二模型符合实际纳米颗粒特征；去除纳米颗粒材料层，更改纳米颗粒材料与空气的混合层的厚度与比例参数，得到第三模型，使混合层包含从顶层到底层比例一致的纳米颗粒材料与空气，并对更改后的混合层进行拟合；将更改后的混合层改进为有效介质近似层进行拟合，获得纳米颗粒的光学性质信息。本方法能满足数学上的拟合度以及物理上的形貌特征，更准确的获取纳米颗粒光学性质信息。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纳米 颗粒 光谱 拟合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法，其特征在于，利用光谱椭偏仪，采用有效介质近似层和四步拟合的方法，具体包括：在衬底上形成纳米颗粒材料层，得到第一模型，并对所述纳米颗粒材料层进行直接拟合，得到初步实验结果；在所述纳米颗粒材料层上形成纳米颗粒材料与空气的混合层，使得到的第二模型符合实际纳米颗粒特征；去除第二模型中的纳米颗粒材料层，更改纳米颗粒材料与空气的混合层的厚度与比例参数，得到第三模型，使所述混合层包含从顶层到底层比例一致的纳米颗粒材料与空气，并对更改后的混合层进行拟合；将更改后的混合层改进为有效介质近似层进行拟合，获得纳米颗粒的光学性质信息。
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