[发明专利]COA基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法有效
申请号: | 201610361975.6 | 申请日: | 2016-05-27 |
公开(公告)号: | CN106054473B | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 洪日;谢克成 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种COA基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法。该方法包括以下步骤:采用多种色阻在阵列基板上形成色阻层,相邻的两种色阻之间存在凸起的叠加区;在色阻层上形成钝化层;在钝化层上形成光阻层;将叠加区所对应的光阻层去除;将叠加区所对应的钝化层去除,以使叠加区的色阻显露出来。该彩色滤光膜包括色阻层和钝化层;色阻层形成在阵列基板之上,色阻层由多种颜色的色阻形成,相邻的两种色阻之间存在叠加区;钝化层上、叠加区所对应的位置处的钝化层被去除以使色阻层显露出来。COA基板包括上述彩色滤光膜。本发明能有效降低ODF对组后因色阻残留气体释放导致的液晶气泡的产生,无需增加额外的费用,也不用牺牲开口率。 | ||
搜索关键词: | coa 基板 彩色 滤光 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种COA工艺中彩色滤光膜的形成方法,其特征在于,包括以下步骤:采用多种色阻在阵列基板上形成色阻层,相邻的两种色阻之间存在凸起的叠加区;在所述色阻层上形成钝化层;在所述钝化层上形成光阻层;将所述叠加区所对应的所述光阻层去除;将所述叠加区所对应的所述钝化层去除,以使所述叠加区的色阻显露出来。
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