[发明专利]铜负载的氧化钨纳米管及其制备工艺在审
| 申请号： | 201610340160.X | 申请日： | 2016-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN107413352A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 伦慧东 | 申请（专利权）人： | 伦慧东 |
| 主分类号： | B01J23/888 | 分类号： | B01J23/888 |
| 代理公司： | 石家庄众志华清知识产权事务所(特殊普通合伙)13123 | 代理人： | 王苑祥 |
| 地址： | 063000 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铜负载的氧化钨纳米管及其制备工艺，其以氧化钨纳米管为基体，在氧化钨纳米管的表面负载0.001~0.1wt.%的金属铜离子。所述制备工艺包括氧化钨纳米管的制备，将可溶性铜盐盐的水溶液缓慢加入至WO3纳米管分散液中，30~50℃反应1~3h，过滤或离心分离，得固相；将所得固相分散至pH为9.0~10的水溶液中，在室温下搅拌10~20小时，过滤或者离心分离，干燥，得铜负载氧化钨纳米管。铜离子的负载有效地提高了氧化钨的可见光降解效率；与普通的氧化钨粉体相比，氧化钨纳米管的合成大大提高了氧化钨的比表面积，进一步地提高铜与氧化钨的接触及铜负载氧化钨与有害气体的接触面积，提高了催化降解效率。 | ||
| 搜索关键词： | 负载 氧化钨 纳米 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种铜负载的氧化钨纳米管，以氧化钨纳米管为基体，其特征在于在氧化钨纳米管的表面负载0.005~5.0wt.%的Cu2+，所述氧化钨纳米管的管径为50~100纳米。
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