[发明专利]阳光选择大型平板玻璃全介质复合膜系连续溅射沉积工艺在审

专利信息
申请号: 201610322203.1 申请日: 2016-05-16
公开(公告)号: CN106007400A 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 庄志杰;周钧 申请(专利权)人: 赛柏利安工业技术(苏州)有限公司
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 郭春远
地址: 215024 江苏省苏州市工*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 阳光选择大型平板玻璃全介质复合膜系连续溅射沉积工艺,在玻璃的表面依次沉积可见光透过扩展膜系、紫外阳光选择滤过膜系、功能连接转换膜系、可见光透过减反膜系、红外透过选择滤过膜系、色彩调制膜系和表面覆盖膜系;薄膜连续溅射沉淀过程精确高效节能,不同膜系匹配和薄膜厚度相互组合,能够达到不对玻璃机体加热,实现整个膜系的常温气相沉积,制得玻璃膜层体系完善耐磨牢固整体厚度有限,耐候性、膜层致密性和稳定性好,可见光透过率高,可见光的视觉舒适度显著提高,工艺简单,节能环保,适于大型平板玻璃镀膜生产。
搜索关键词: 阳光 选择 大型 平板玻璃 介质 复合 连续 溅射 沉积 工艺
【主权项】:
阳光选择大型平板玻璃全介质复合膜系连续溅射沉积工艺,其特征在于,在玻璃的表面依次沉积可见光透过扩展膜系、紫外阳光选择滤过膜系、功能连接转换膜系、可见光透过减反膜系、红外透过选择滤过膜系、色彩调制膜系和表面覆盖膜系;所有的膜系根据各自膜层匹配的薄膜材料和沉积厚度要求,在大型平板玻璃连续磁控溅射镀膜机上依次配置相应的靶材,进行工业化连续生产;在薄膜正常生产溅射过程中,可调节玻璃的传送速度为5~10m/min;每对阴极上所施加的功率为40~75kw,施加在靶材上的电流在100~150A之间;气相沉积时通入的工艺气体包括氩气,其中氩气的流量为350sccm,并有可调节范围,当所需的工艺气体为氩气和氧气的混合气体时,加入的氧气的流量为相应氩气流量的5~15%。
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