[发明专利]磁吸式键盘及其按键在审
申请号: | 201610321327.8 | 申请日: | 2016-05-13 |
公开(公告)号: | CN107369585A | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
发明(设计)人: | 黄维勇;张贤灿 | 申请(专利权)人: | 致伸科技股份有限公司 |
主分类号: | H01H13/705 | 分类号: | H01H13/705 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人: | 张睿 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种磁吸式键盘及其按键,该按键包括键帽、底板、薄膜电路、框架、第一磁吸件、第二磁吸件及第三磁吸件。其中,键帽用以提供按压操作;薄膜电路设置于底板上;框架设置于底板与薄膜电路上,具有第一凹部、第二凹部与开口,键帽是活动穿设于该开口,该框架还具有一容置空间;第一磁吸件设置于底板上并位于第一凹部中;第二磁吸件设置于底板上并位于第二凹部中;第三磁吸件设置于键帽下并位于容置空间中。一第一磁性吸力与一第二磁性吸力分别形成于第三磁吸件与第一磁吸件之间及第三磁吸件与第二磁吸件之间,以驱使键帽凸出开口。本发明藉由此侧向式或水平式的磁性吸力对键帽进行复位,能够降低按键厚度与体积而利于薄型化制作。 | ||
搜索关键词: | 磁吸式 键盘 及其 按键 | ||
【主权项】:
一种磁吸式键盘,具有多个磁吸式按键,其特征在于,每一该磁吸式按键包括:键帽,用以提供按压操作;底板;薄膜电路,设置于该底板上;框架,设置于该底板与该薄膜电路上,该框架具有第一凹部、第二凹部与开口,该键帽是活动穿设于该开口,该框架还具有一容置空间;第一磁吸件,设置于该底板上并位于该第一凹部中;第二磁吸件,设置于该底板上并位于该第二凹部中;以及第三磁吸件,设置于该键帽下并位于该容置空间中,而一第一磁性吸力与一第二磁性吸力分别形成于该第三磁吸件与该第一磁吸件之间及该第三磁吸件与该第二磁吸件之间,用以驱使该键帽凸出该开口。
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