[发明专利]一种用于水稻两用核不育系暗期阻断的方法有效

专利信息
申请号: 201610320959.2 申请日: 2016-05-12
公开(公告)号: CN105766418B 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 胡国成;付亚萍;刘文真 申请(专利权)人: 中国水稻研究所
主分类号: A01G7/06 分类号: A01G7/06;A01G7/04
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 裴娜
地址: 310006 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种用于水稻两用核不育系暗期阻断的方法,其特征在于,包括以下步骤:在幼穗发育的III期到VI期期间,根据天气趋势预报及实时监测气象资料,遭遇连续3天以上的异常低温天气,及早准备应急干预措施;在夜间用人工灯光装置照射制种田,造成水稻植株的暗期阻断,使超短的连续暗期作用于水稻两用核不育系植株,通过干预降低不育系的育性转换临界温度,直至低温天气结束。本方法利用暗期阻断方法调节光周期,使水稻两用核不育系育性转换临界温度得以降低,防范异常低温天气导致的两系杂交稻制种风险。
搜索关键词: 一种 用于 水稻 两用 不育 系暗期 阻断 方法
【主权项】:
1.一种用于水稻两用核不育系暗期阻断的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)在幼穗发育的III期到VI期期间,根据天气趋势预报及实时监测气象资料,遭遇连续3天以上的日平均气温低于24℃的异常低温天气,及早准备应急干预措施;2)对于水稻两用核不育系进行应急干预处理:在夜间用人工灯光装置照射制种田,具体为:将水稻接受22.5℃的低温处理,设置为13.5小时光照10.5小时黑暗的常规低温处理,在此基础上于晚23:30增加400Lux的10秒闪光处理或者通过时控装置于晚上23:30增加长度为10秒以上的短时光照,使不育系材料接受强度为400Lux以上的闪光处理;造成水稻植株的暗期阻断,使小于8小时的超短的连续暗期作用于水稻两用核不育系植株,通过干预降低不育系的育性转换临界温度至23℃以下,直至低温天气结束。
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