[发明专利]P4VP-b-PMA(Az)嵌段共聚物、柱直径可调的高贯通六方柱状薄膜及制备方法有效
申请号: | 201610256400.8 | 申请日: | 2016-04-22 |
公开(公告)号: | CN105884988B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 陈爱华;屈婷 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | C08F293/00 | 分类号: | C08F293/00;C08F220/36;C08J5/18 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王文君 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明提供P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物、柱直径可调的高贯通六方柱状薄膜及制备方法,其中,P4VP‑b‑PMA(Az)液晶嵌段共聚物具有如下结构: |
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搜索关键词: | 嵌段共聚物 薄膜 六方柱 直径可调 贯通 制备 退火 高效离子 合成液晶 溶剂氛围 旋涂成膜 光响应 液晶 应用 | ||
【主权项】:
1.一种制备柱直径可调的高贯通六方柱状薄膜的方法,其特征在于,将配制好的P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物溶液旋涂在单晶硅片上形成厚度100nm~6μm薄膜,对所述薄膜退火即得;所述P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物具有如下结构:
其中,m为10‑900;n为5‑60;或,所述P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物采用如下方法制备而成:
具体包括如下步骤:(1)P4VP大分子引发剂的合成:将小分子引发剂、配体、4‑乙烯基吡啶加入反应容器,用液氮冷冻所述反应器,并加入氯化亚铜;在液氮冷冻状态下抽真空3‑7min,再在通氮气条件下解冻并搅拌3‑7min,重复上述抽真空、解冻操作2‑5次,最后,于真空状态下,30‑60℃反应6‑72h,即得粗产品;(2)P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物的合成:将P4VP大分子引发剂、配体、{11‑[4‑(4‑丁基苯偶氮)苯氧基]十一烷基甲基丙烯酸酯}加入反应容器,用液氮冷冻所述反应器,并加入氯化亚铜;在液氮冷冻状态下抽真空3‑7min,再在通氮气情况下解冻并搅拌3‑7min,重复上述抽真空、解冻操作2‑5次,最后,于真空状态下,60‑100℃反应6‑72h,即得粗产品。
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