[发明专利]P4VP-b-PMA(Az)嵌段共聚物、柱直径可调的高贯通六方柱状薄膜及制备方法有效

专利信息
申请号: 201610256400.8 申请日: 2016-04-22
公开(公告)号: CN105884988B 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 陈爱华;屈婷 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C08F293/00 分类号: C08F293/00;C08F220/36;C08J5/18
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王文君
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物、柱直径可调的高贯通六方柱状薄膜及制备方法,其中,P4VP‑b‑PMA(Az)液晶嵌段共聚物具有如下结构:其中,m为10‑900,n为2‑900。本发明通过两步ATRP方法合成液晶嵌段共聚物,再通过旋涂成膜方式得到不同厚度的BCP薄膜,将薄膜置于溶剂氛围下退火后即可得到不同厚度、不同孔径大小的高贯通六方柱状薄膜,该膜在pH响应、光响应和高效离子通道领域具有很大应用价值和优势。 1
搜索关键词: 嵌段共聚物 薄膜 六方柱 直径可调 贯通 制备 退火 高效离子 合成液晶 溶剂氛围 旋涂成膜 光响应 液晶 应用
【主权项】:
1.一种制备柱直径可调的高贯通六方柱状薄膜的方法,其特征在于,将配制好的P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物溶液旋涂在单晶硅片上形成厚度100nm~6μm薄膜,对所述薄膜退火即得;所述P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物具有如下结构:其中,m为10‑900;n为5‑60;或,所述P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物采用如下方法制备而成:具体包括如下步骤:(1)P4VP大分子引发剂的合成:将小分子引发剂、配体、4‑乙烯基吡啶加入反应容器,用液氮冷冻所述反应器,并加入氯化亚铜;在液氮冷冻状态下抽真空3‑7min,再在通氮气条件下解冻并搅拌3‑7min,重复上述抽真空、解冻操作2‑5次,最后,于真空状态下,30‑60℃反应6‑72h,即得粗产品;(2)P4VP‑b‑PMA(Az)嵌段共聚物的合成:将P4VP大分子引发剂、配体、{11‑[4‑(4‑丁基苯偶氮)苯氧基]十一烷基甲基丙烯酸酯}加入反应容器,用液氮冷冻所述反应器,并加入氯化亚铜;在液氮冷冻状态下抽真空3‑7min,再在通氮气情况下解冻并搅拌3‑7min,重复上述抽真空、解冻操作2‑5次,最后,于真空状态下,60‑100℃反应6‑72h,即得粗产品。
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