[发明专利]一种硅基微环滤波器与磷化铟基光探测器异质集成单片制作方法在审

专利信息
申请号: 201610158140.0 申请日: 2016-03-18
公开(公告)号: CN105676368A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 牛斌;顾晓文 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: G02B6/293 分类号: G02B6/293;H01L27/144
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 张弛
地址: 210016 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明是一种硅基微环滤波器与磷化铟基光探测器异质集成单片制作方法:1)使用绝缘体上硅材料制作硅基微环滤波器,2)在硅基微环滤波器上制作键合材料,3)将用于制作光探测器的磷化铟衬底外延材料正面与硅基微环滤波器正面键合,4)将磷化铟衬底减薄至只留下磷化铟基外延材料,5)在磷化铟基外延材料上制作出光探测器波导、耦合波导、电极接触结构,6)在集成器件正面制作电隔离结构,并制作光探测器电极,完成硅基微环滤波器与磷化铟基光探测器异质集成单片制作;优点:充分利用了硅基光子器件低损耗、集成化优势与磷化铟基光子器件高响应大带宽优势,在异质集成单片上同时实现光载微波信号滤波与光电转换功能。
搜索关键词: 一种 硅基微环 滤波器 磷化 铟基光 探测器 集成 单片 制作方法
【主权项】:
一种硅基微环滤波器与磷化铟基光探测器异质集成单片制作方法,其特征是,该方法包括以下步骤:1)使用绝缘体上硅材料制作硅基微环滤波器;2)在硅基微环滤波器上制作键合材料;3)将用于制作光探测器的磷化铟衬底外延材料正面与硅基微环滤波器正面键合;4)将磷化铟衬底减薄至只留下磷化铟基外延材料;5)在磷化铟基外延材料上制作出光探测器波导、耦合波导、电极接触结构;6)在集成单片正面制作电隔离结构,并制作光探测器电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第五十五研究所,未经中国电子科技集团公司第五十五研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610158140.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top