[发明专利]EUV焦点监控系统和方法有效
| 申请号： | 201610153625.0 | 申请日： | 2016-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106019850B | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 石志聪;郑介任;陈政宏;陈家桢;游信胜;严涛南;赖韦志 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明的实施例公开了用于监控EUV光刻系统的焦点的系统和方法。另一方面包括具有测量第一移位值和测量第二移位值的操作的方法，其中对于晶圆上的焦点测试结构的第一组图案化的子结构，测量第一移位值，并且对于晶圆上的测试结构的第二组图案化的子结构，测量第二移位值。可以使用非对称照明在晶圆上形成测试结构，测试结构具有第一组图案化的子结构和第二组图案化的子结构，第一组图案化的子结构具有第一间距，第二组图案化的子结构具有与第一间距不同的第二间距。方法还包括，基于第一移位值和第二移位值之间的差值来确定用于照明系统的焦点移位补偿。 | ||
| 搜索关键词： | euv 焦点 监控 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：将光掩模插入照明系统，所述光掩模包括具有第一组子结构和第二组子结构的测试结构，所述第一组子结构具有第一间距，并且所述第二组子结构具有第二间距；以第一焦点并且利用非对称照明来照射所述光掩模，并且由此利用所述测试结构来图案化晶圆上方的层；对于所述晶圆的第一组图案化的子结构，测量第一移位值；对于所述晶圆的第二组图案化的子结构，测量第二移位值；以及基于所述第一移位值和所述第二移位值之间的差值来补偿所述照明系统的焦点移位。
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