[发明专利]一种低角度依赖高饱和度蓝色SiO2胶体晶体膜的制备方法在审
| 申请号： | 201610077639.9 | 申请日： | 2016-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN105714290A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 王莉丽;王秀锋;刘派;伍媛婷 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 段俊涛 |
| 地址： | 710021 陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明一种低角度依赖高饱和度蓝色SiO2胶体晶体膜的制备方法，属于光子晶体结构色制备技术领域。取粒径为310±10nm SiO2微球，配制浓度1‑3wt％的SiO2胶体溶液，超声分散2‑4h，将清洗过的基片垂直固定在SiO2胶体溶液中，40‑65℃干燥24‑30h；采用蒸镀仪在组装好的SiO2胶体晶体膜表面镀厚度为5‑10nm的碳膜，采用真空离子溅射法在碳膜表面再镀一层厚度为5‑10nm的铂金膜；碳膜提供了光吸收背景，使其在光子禁带的反射率增强，对禁带以外波长的反射率降低，吸收了杂散光，铂金膜使其在光子禁带的反射强度进一步增强；宏观上呈色表现出低角度依赖性，色饱和度显著提高，呈现绚丽的单一蓝色。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 角度 依赖 饱和度 蓝色 sio sub 胶体 晶体 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低角度依赖高饱和度蓝色SiO2胶体晶体膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)取平均粒径为310±10nm的SiO2微球，放入乙醇中搅拌均匀，配制浓度为1‑3wt％的SiO2胶体溶液，超声分散2‑4h；(2)用去离子水清洗基片，然后分别在去离子水和乙醇中超声清洗30‑90min后烘干备用，将清洗过的基片垂直固定在已超声分散的SiO2胶体溶液中，移入干燥箱中，干燥时间为24‑30h，干燥温度为40‑65℃，得到组装好的SiO2胶体晶体膜；(3)将从干燥箱中取出的SiO2胶体晶体膜放入蒸镀仪中镀碳膜，使SiO2胶体晶体膜表面的碳膜厚度为5‑10nm；(4)将已经镀过碳膜的SiO2胶体晶体膜取出，改变靶材为铂金，采用真空离子溅射法在其表面再镀一层厚度为5‑10nm的铂金膜，即可得到低角度依赖高饱和度蓝色SiO2胶体晶体膜。
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