[发明专利]一种基于石墨烯的光滤波器件有效
申请号: | 201610062949.3 | 申请日: | 2016-01-30 |
公开(公告)号: | CN105700201B | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
发明(设计)人: | 贺梦冬;彭宇翔;王凯军 | 申请(专利权)人: | 中南林业科技大学 |
主分类号: | G02F1/00 | 分类号: | G02F1/00;G02F1/01 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 410004 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 一种基于石墨烯的光滤波器件,包括光耦合结构,光耦合结构包括电解质层、金属电极、石墨烯条带阵列、介质层、金属光栅和衬底,在电解质层和金属电极上设置有顶栅电压的调节装置;由石墨烯条带阵列、介质层与金属光栅构成的Fabry‑Perot微腔阵列位于衬底上,电解质层和金属电极分别位于Fabry‑Perot微腔上方的同一平面上。本发明基于目前极为成熟的微纳刻蚀加工技术以及多层膜技术,工艺流程不繁杂,操作简单。与传统的同频段滤波器件相比,石墨烯的引入大大缩小了耦合器件的尺寸。通过栅极电压调节石墨烯的费米能级来调控光过滤频率,实现了对光的主动控制,而且所需的功耗较小,品质因数大,响应速度快,具有很宽的工作频。 | ||
搜索关键词: | 石墨烯 电解质层 金属电极 光耦合结构 光滤波器 金属光栅 条带阵列 介质层 衬底 栅极电压调节 调节装置 费米能级 滤波器件 品质因数 微腔阵列 主动控制 耦合器件 工艺流程 传统的 多层膜 工作频 同频段 顶栅 功耗 刻蚀 微腔 过滤 响应 引入 调控 成熟 加工 | ||
【主权项】:
1.一种基于石墨烯的光滤波器件,其特征在于:包括光耦合结构,所述光耦合结构包括电解质层、金属电极、石墨烯条带阵列、二氧化硅介质层、金属光栅和衬底,所述电解质层与金属电极之间设置有顶栅电压的调节装置;所述二氧化硅介质层位于石墨烯条带阵列和金属光栅之间,所述石墨烯条带阵列、二氧化硅介质层、金属光栅构成Fabry‑Perot微腔阵列,位于衬底上,所述电解质层和金属电极分别位于Fabry‑Perot微腔的上方的同一平面上,所述金属光栅位于衬底上,所述电解质层和金属电极与石墨烯条带阵列相对设置。
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