[发明专利]分离膜结构体在审
| 申请号： | 201580056508.6 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN107148312A | 公开（公告）日： | 2017-09-08 |
| 发明（设计）人： | 宫原诚;野田宪一;市川真纪子;萩尾健史 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D69/10;B01D69/12;C01B39/38;C01B39/46 |
| 代理公司： | 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙)11432 | 代理人： | 王轶,郑雪娜 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 分离膜结构体(10)包括多孔质支撑体(20)、形成在多孔质支撑体(20)上的第一分离膜(30)、以及形成在第一分离膜(30)上的第二分离膜(40)。第一分离膜(30)含有Si/Al原子比为200以上的高硅沸石。第二分离膜(40)含有阳离子。 | ||
| 搜索关键词： | 分离 膜结构 | ||
【主权项】：
一种分离膜结构体，其包括：多孔质支撑体，第一分离膜，所述第一分离膜形成在所述多孔质支撑体上，且含有Si/Al原子比为200以上的高硅沸石，以及第二分离膜，所述第二分离膜形成在所述第一分离膜上，且含有阳离子。
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