[发明专利]包括纳米图案的光学片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201580051845.6 申请日: 2015-09-25
公开(公告)号: CN106716183B 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 南时旭 申请(专利权)人: 可隆工业株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02F1/1335
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 李琳;许向彤
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种制造光学片的方法,所述方法包括以下步骤:(S1)供给可固化树脂组合物并形成单层;(S2)通过使在(S1)中形成的所述单层通过具有节距为50nm至500nm且纵横比为1.0至5.0的纳米图案的脱模模具,而获得在表面上具有转印的纳米图案的所述单层;以及(S3)将在(S2)中获得的具有转印的纳米图案的单层固化。
搜索关键词: 包括 纳米 图案 光学 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种制造光学片的方法,包括:(S1)通过供给可固化树脂组合物来形成单层;(S2)通过使在(S1)中形成的所述单层通过具有节距为50nm至500nm且纵横比为1.0至5.0的纳米图案的脱模模具,来获得在所述单层的表面上具有转印的纳米图案的所述单层;以及(S3)将在(S2)中获得的具有所述转印的纳米图案的所述单层固化,其中,(S1)中的所述可固化树脂组合物包含100重量份的重均分子量为100至30,000的聚氨酯丙烯酸酯和基于100重量份的所述聚氨酯丙烯酸酯的75重量份至250重量份的重均分子量为100至10,000的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物。
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