[发明专利]表皮用的支承框有效
| 申请号： | 201580026872.8 | 申请日： | 2015-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN106687860B | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 高村一夫;小野阳介;種市大树;佐藤泰之;廣田俊明;古贺圣和 | 申请（专利权）人： | 日本轻金属株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;B65D85/86 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 韩俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种表皮用的支承框(1A)，具有铝合金制的框体(10)，在框体(10)的正面(10a)粘接有表皮覆膜，在框体(10)的背面粘接有玻璃基板。在框体(10)的表面(10a)形成有正面侧的凹槽(31～33)，所述正面侧的凹槽(31～33)沿着框体(10)的周向延伸，并且形成有正面侧的抽吸孔(50)，所述正面侧的抽吸孔(50)从框体(10)的外周面(10c)直至正面侧的凹槽(31～33)的内表面。在所述结构中，能够在不将其它部件按压到表皮覆膜的情况下，将表皮覆膜粘接于框体(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 表皮 支承 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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