[发明专利]相位差膜及使用该相位差膜的偏振片、显示装置有效

专利信息
申请号: 201580015601.2 申请日: 2015-03-12
公开(公告)号: CN106104333B 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 森井里志;世良贵史;高木隆裕 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C08K5/34;C08L1/00;G02F1/1335;G02F1/13363
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种可以维持高的相位差显现性、并且抑制在湿热环境下的相位差变动的相位差膜、及使用其的偏振片、显示装置。一种相位差膜,其包含含有下述通式(1)所示的含氮化合物(A)和下述通式(2)所示的含氮化合物(B)的相位差提升剂,Ar‑X2‑Ar‑Y2‑Ar……含氮化合物(A)(通式(1)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X2及Y2分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环)Ar‑X3‑Ar‑Y3‑Ar‑Z3‑Ar……含氮化合物(B)(通式(2)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X3、Y3及Z3分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环)。
搜索关键词: 相位差 使用 偏振 显示装置
【主权项】:
1.一种相位差膜,其具有相位差提升剂,所述相位差提升剂含有下述通式1所示的含氮化合物A和下述通式2所示的含氮化合物B,[化学式1]通式1Ar‑X2‑Ar‑Y2‑Ar……含氮化合物A通式1中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X2及Y2分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环,[化学式2]通式2Ar‑X3‑Ar‑Y3‑Ar‑Z3‑Ar……含氮化合物B通式2中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X3、Y3及Z3分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环。
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