[发明专利]用于白光成色OLED装置的纳米结构有效

专利信息
申请号: 201580014737.1 申请日: 2015-03-19
公开(公告)号: CN106104841B 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 马丁·B·沃克;李城垞;迈克尔·本顿·弗里;尼古拉斯·C·埃里克森 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾丽波;李荣胜
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本公开描述了纳米结构化光提取滤色器层合物和制品、以及使用纳米结构化光提取滤色器层合物以用于使用层合技术来制造包括纳米结构的OLED的方法。纳米结构化OLED装置可表现出增强的光提取效率。该方法涉及膜、层或涂层的转印和/或复制,以便在例如顶发射或底发射有源矩阵OLED(TE‑AMOLED或BE‑AMOLED)装置中形成与OLED的发射表面光学接触的纳米结构化表面。具有增强光提取效率的制品可具体用于白光成色(CBW)OLED显示器,该OLED显示器使用具有滤色器阵列的白光光谱OLED。
搜索关键词: 用于 白光 成色 oled 装置 纳米 结构
【主权项】:
1.一种白光成色有机发光二极管图像显示器,包括:具有顶表面并能够通过所述顶表面发射白色光谱的光的有机发光二极管基板;滤色器基板,所述滤色器基板包括:支撑基板;与所述支撑基板折射率匹配的具有纳米结构化相对表面和与所述支撑基板接触的平坦表面的纳米结构化转印层;与所述转印层的所述纳米结构化表面一致并且使得所述纳米结构化表面平面化、并具有平坦相对表面的高折射率转印层平面化层;与所述高折射率转印层平面化层的所述平坦表面接触的高折射率滤色器层;和与所述高折射率滤色器层接触的高折射率滤色器平面化层;和与所述有机发光二极管基板的顶表面接触并具有与所述高折射率滤色器平面化层接触的平坦相对表面的光学耦合层。
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