[发明专利]透明荧光硅铝氧氮陶瓷及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201580011758.8 申请日: 2015-03-06
公开(公告)号: CN106068321A 公开(公告)日: 2016-11-02
发明(设计)人: 高桥拓实;多多见纯一;佐野由纪;田中健大;横内正洋 申请(专利权)人: 神奈川科学技术研究院;国立大学法人横滨国立大学
主分类号: C09K11/64 分类号: C09K11/64;C09K11/08;C09K11/80
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李英艳
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供具有荧光性和透光性的透明荧光硅铝氧氮陶瓷及其制备方法。这种透明荧光硅铝氧氮陶瓷由硅铝氧氮荧光体组成,所述硅铝氧氮荧光体含有由通式Mx(Si,Al)y(N,O)z表示的氮化硅系化合物组成的母体和发光中心元素,式中,M为选自由Li、碱土金属以及稀土金属所组成的组中的至少一种,0≤x/z<3,0<y/z<1。
搜索关键词: 透明 荧光 硅铝氧氮 陶瓷 及其 制备 方法
【主权项】:
一种透明荧光硅铝氧氮陶瓷,其特征在于,由硅铝氧氮荧光体组成,所述硅铝氧氮荧光体含有由通式Mx(Si,Al)y(N,O)z表示的氮化硅系化合物组成的母体和发光中心元素,式中,M为选自由Li、碱土金属以及稀土金属所组成的组中的至少一种,0≤x/z<3,0<y/z<1。
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