[实用新型]真空炉有效
申请号: | 201520524853.5 | 申请日: | 2015-07-20 |
公开(公告)号: | CN204757650U | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | 张丽;陈志元 | 申请(专利权)人: | 浙江恩鸿电子有限公司 |
主分类号: | F27B5/05 | 分类号: | F27B5/05 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 来剑锋 |
地址: | 314500 浙江省嘉*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种真空炉;本实用新型的目的是提供一种生产效率高且热处理后散热快的真空炉;它包括机架、储物室、加热室、真空泵、控制柜;所述的储物室设置在机架的一端,该储物室为开口向外的腔体,在腔体的开口处设有密封门;所述的真空泵与储物室连接;所述的加热室通过横移组件设置在机架上,该加热室为开口向外的腔体,在腔体的内部设有加热装置,加热室的腔体与储物室的腔体的开口朝向相同,储物室可置于加热室的腔体内;所述的控制柜与加热室连接;它具有结构简单、设计合理和使用方便等特点。 | ||
搜索关键词: | 真空炉 | ||
【主权项】:
一种真空炉,其特征在于:它包括机架、储物室、加热室、真空泵、控制柜;所述的储物室设置在机架的一端,该储物室为开口向外的腔体,在腔体的开口处设有密封门;所述的真空泵与储物室连接;所述的加热室通过横移组件设置在机架上,该加热室为开口向外的腔体,在腔体的内部设有加热装置,加热室的腔体与储物室的腔体的开口朝向相同,储物室可置于加热室的腔体内;所述的控制柜与加热室连接。
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