[实用新型]光掩膜版用涂胶卡盘有效
申请号: | 201520500799.0 | 申请日: | 2015-07-13 |
公开(公告)号: | CN204925613U | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | 张诚;李伟;李翼;颜春李;徐根;周学文 | 申请(专利权)人: | 湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 长沙智嵘专利代理事务所 43211 | 代理人: | 黄子平 |
地址: | 410205 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光掩膜版用涂胶卡盘,包括卡盘本体,卡盘本体上设有用于卡持待涂胶的光掩膜版的第一凹槽,第一凹槽呈与光掩膜版相适应的环形,第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件。采用本实用新型的光掩膜版用涂胶卡盘时,由于第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件,故当光掩膜版装设于第一凹槽内时,由于摩擦件与光掩膜版底部的静摩擦力,从而使当卡盘具有较高的速度和加速度时,光掩膜版与卡盘之间不会出现沿轴线方向的相对移动,从而提高环形光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 光掩膜版用 涂胶 卡盘 | ||
【主权项】:
一种光掩膜版用涂胶卡盘,其特征在于,包括卡盘本体(1),所述卡盘本体(1)上设有用于卡持待涂胶的光掩膜版的第一凹槽(101),所述第一凹槽(101)呈与所述光掩膜版相适应的环形,所述第一凹槽(101)的底部设有用于与装设于所述第一凹槽(101)内的所述光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件(2)。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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