[发明专利]钕铁硼磁体在审
| 申请号： | 201510870246.9 | 申请日： | 2015-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN105405562A | 公开（公告）日： | 2016-03-16 |
| 发明（设计）人： | 史磊;孙斌 | 申请（专利权）人： | 中磁科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01F1/057 | 分类号： | H01F1/057 |
| 代理公司： | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人： | 陈变花;田昕 |
| 地址： | 044200 山西省运*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钕铁硼磁体，其包括：钕铁硼基体以及合金镀层，其中合金镀层电镀在钕铁硼基体的表面，合金镀层从内至外包括：第一镀层，其为Ni-Cu-Ni层；以及第二镀层，其为Sn层。本发明的钕铁硼磁体的合金镀层孔隙率小，抗盐雾性、耐氧化性、耐腐蚀性以及耐磨性均有所提高。本发明的钕铁硼磁体还具有优良的焊接功能。本发明的钕铁硼磁体的表面具有平滑、不易沾染灰尘和不反光的特点，因此其整体质感增强。 | ||
| 搜索关键词： | 钕铁硼 磁体 | ||
【主权项】：
一种钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼磁体包括：钕铁硼基体，以及合金镀层，其电镀在所述钕铁硼基体的表面，所述合金镀层从内至外包括：第一镀层，其为Ni‑Cu‑Ni层；以及第二镀层，其为Sn层。
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