[发明专利]放大装置有效
| 申请号： | 201510645564.5 | 申请日： | 2015-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN106501955B | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 允智省;E·A·麦克道威尔;A·J·奥德基尔克;G·A·安布尔;T·L·王 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/28 | 分类号： | G02B27/28;G02B5/30 |
| 代理公司： | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 吴亦华;徐一琨<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种包括光学系统的放大装置。该光学系统包括出射光瞳、接近出射光瞳的反射式偏振器、布置成邻近反射式偏振器与出射光瞳相对的部分反射器以及布置在反射式偏振器和部分反射器之间的四分之一波延迟器。反射式偏振器关于两个正交轴弯曲并且部分反射器与反射式偏振器间隔开。 | ||
| 搜索关键词： | 放大 装置 | ||
【主权项】：
1.一种包括光学系统的放大装置，所述光学系统包括：/n出射光瞳；/n接近所述出射光瞳的反射式偏振器，所述反射式偏振器关于两个正交轴弯曲；/n部分反射器，布置成邻近所述反射式偏振器与所述出射光瞳相对，所述部分反射器与所述反射式偏振器间隔开；所述部分反射器在预定的多个波长中具有至少30％的平均光反射率；以及/n四分之一波延迟器，布置在所述反射式偏振器和所述部分反射器之间，/n其中所述反射式偏振器包括至少一层，所述至少一层在所述至少一层上的离开所述反射式偏振器的光轴的至少一个第一位置处是基本上光学双轴的，并且在离开所述光轴的至少一个第二位置处是基本上光学单轴的，其中所述至少一个层上的所述至少一个第二位置处的所述至少一个层在厚度方向上具有第一折射率，在与所述厚度方向正交的长度方向上具有第二折射率，并且在与厚度方向和长度方向正交的宽度方向上具有第三折射率，第一折射率和第二折射率差异的绝对值小于0.02，第二折射率和第三折射率差异的绝对值大于0.05，其中通过所述光学系统的每个主光线以小于30度的入射角入射在所述反射式偏振器上。/n
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