[发明专利]一种基于SIW加载H型缝隙结构的双通带滤波器在审

专利信息
申请号: 201510438047.0 申请日: 2015-07-23
公开(公告)号: CN105098301A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 王洪李;赵永久 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: H01P1/203 分类号: H01P1/203
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 朱亮淞
地址: 210000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于SIW加载H型缝隙结构的双通带滤波器,包括两个SIW腔谐振器和共面波导,所述两个SIW腔谐振器的两端通过共面波导分别与输入输出端连接,在两个SIW腔谐振器的耦合窗口正上方加载H型缝隙结构。本发明具有双通带,双传输零点,高选择性,结构紧凑易于加工等特点。
搜索关键词: 一种 基于 siw 加载 缝隙 结构 双通带 滤波器
【主权项】:
1.一种基于SIW加载H型缝隙结构的双通带滤波器,包括两个SIW腔谐振器和共面波导,所述两个SIW腔谐振器的两端通过共面波导分别与输入输出端连接,其特征在于:在两个SIW腔谐振器的耦合窗口正上方加载H型缝隙结构;所述两个SIW腔谐振器为在介质基板上左右分别设置若干金属化通孔围合形成,位于左侧的为第一SIW腔谐振器,位于右侧的为第二SIW腔谐振器;所述金属化通孔的直径均一致,且相邻金属化通孔之间的间距相同;所述介质基板包括介质基片(11)、上层金属层(12)和下层金属层(13),设定介质基板上横向中线为y轴,纵向中线为x轴,所述介质基片(11)设置在上层金属层(12)和下层金属层(13)之间;所述H型缝隙结构包括第五槽线(25)、第六槽线(26)和第七槽线(27),所述第五槽线(25)和第七槽线(27)平行设置在耦合窗口正上方,所述第五槽线(25)和第七槽线(27)关于y轴对称,所述第六槽线(26)垂直设置在第五槽线(25)与第七槽线(27)之间的中线上。
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