[发明专利]一种超级电容器用高取向石墨烯薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201510366344.9 | 申请日： | 2015-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN104916459B | 公开（公告）日： | 2018-01-02 |
| 发明（设计）人： | 李耀刚;邵元龙;王宏志;张青红 | 申请（专利权）人： | 东华大学 |
| 主分类号： | H01G11/86 | 分类号： | H01G11/86 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所31233 | 代理人： | 黄志达 |
| 地址： | 201620 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种超级电容器用高取向石墨烯薄膜的制备方法，包括将氧化石墨进行洗涤，然后加入去离子水中，得到悬浮液，超声、离心洗涤，然后将上清液旋转蒸发，得到氧化石墨浆料；将氧化石墨浆料刮涂在铜箔表面，制得氧化石墨薄膜，然后进行照射还原处理，即得。本发明采用刮涂法成膜，还原过程采用光照还原，过程简单，易于工业化生产；本发明制备的超级电容器用高取向石墨烯薄膜具有较好柔韧性，比电容高，在柔性超级电容器、锂离子电池等柔性储能领域有广阔应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超级 电容 器用 取向 石墨 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种超级电容器用高取向石墨烯薄膜的制备方法，包括：(1)将氧化石墨进行洗涤，然后加入去离子水中，得到悬浮液，超声、离心，然后将上清液旋转蒸发，得到氧化石墨浆料；(2)将氧化石墨浆料刮涂在铜箔表面，制得氧化石墨薄膜，然后进行照射还原处理，即得高取向石墨烯薄膜；其中氧化石墨浆料刮涂在铜箔表面具体为：将表面清洗好的铜箔吸附于刮涂机表面，将刮涂刀具设定厚度，启动刮涂机将氧化石墨浆料刮涂在铜箔表面；照射还原处理为：置于氙灯下10～20cm处照射还原3‑12h。
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