[发明专利]一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘有效

专利信息
申请号: 201510253487.9 申请日: 2015-05-18
公开(公告)号: CN104914679B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 宋耀东;项宗齐;方林;何少锋 申请(专利权)人: 合肥芯硕半导体有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;F16B47/00
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 230601 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘,包括有下吸盘,下吸盘上固定有上吸盘,上吸盘上设有十字定位槽,十字定位槽内嵌装有十字定位支架;十字定位支架的正面中心设有十字凸起,所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽;十字定位支架背面朝上时,其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内;十字定位支架正面朝上时,十字凸起部位高出十字定位槽外。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 光刻 多功能 产能 吸盘
【主权项】:
1.一种用于半导体光刻的多功能吸盘,其特征在于:包括有下吸盘,下吸盘上固定有上吸盘,上吸盘上设有十字定位槽,十字定位槽内嵌装有十字定位支架;十字定位支架的正面中心设有十字凸起,所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽;十字定位支架背面朝上时,其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内;十字定位支架正面朝上时,十字凸起部位高出十字定位槽外。
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