[发明专利]微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法有效
申请号: | 201510067466.8 | 申请日: | 2015-02-09 |
公开(公告)号: | CN104569975B | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 王东进;田超;郭圆月;陈卫东;刘波;孟青泉 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G01S13/89 | 分类号: | G01S13/89 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司11260 | 代理人: | 郑立明,郑哲 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法,其包括在成像区域中选取M个测量点以及一参考点,在相同的辐照条件下对第一个测量点处的辐射场与参考点处的辐射场进行同步连续的无扰测量及记录;在不改变辐射系统构型与激励信号的情况下,更换下一个测量点,并对该测量点处的辐射场与参考点处的辐射场进行同步连续的无扰测量及记录,直到遍历所有测量点;以参考点处记录的辐射场变化为时间维匹配基准,将所有测量点处的记录的辐射场在时间维对齐;提取不同时间片段测量点处的辐射场分布,获得辐射场随时间与空间两维变化的信息。该方法能够准确测量辐射场时间维和空间维的变化,可用于辐射场标定或者关联成像。 | ||
搜索关键词: | 微波 凝视 关联 成像 系统 时空 随机 辐射 测量方法 | ||
【主权项】:
一种微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法,其特征在于,该方法包括:在成像区域中选取M个测量点以及一参考点,在相同的辐照条件下对第一个测量点处的辐射场与参考点处的辐射场进行同步连续的无扰测量及记录;在不改变辐射系统构型与激励信号的情况下,更换下一个测量点,并对该测量点处的辐射场与参考点处的辐射场进行同步连续的无扰测量及记录,直到遍历所有测量点;第i次测量得到一组离散数据包括xi(n),xoi(n),n=1,...,N,其中xi(n)表示测量得到ri处的辐射场变化,xoi(n)表示对应的参考点处辐射场的变化,N表示一次测量的采样点数,i=1,...,M;以参考点处记录的辐射场变化为时间维匹配基准,将所有测量点处的记录的辐射场在时间维对齐;其包括:将xo1(n)记为xo(n),计算关于k变量的函数取得最大值处的自变量值ki,此时xoi(n‑ki)与xo(n)变化一致,参考信号时间维对齐,而xi(n)是与xoi(n)同步测量得到,则xi(n‑ki),i=1,...,M为各测量点处在时间维对齐后辐射场随时间的变化;提取不同时间片段测量点处的辐射场分布,获得辐射场随时间与空间两维变化的信息。
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