[实用新型]一种薄膜刻划装置有效
| 申请号： | 201420766200.3 | 申请日： | 2014-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN204315615U | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 王振华;谢建;黄东海;乐安新;郑付成;高云峰 | 申请（专利权）人： | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 深圳市君盈知识产权事务所(普通合伙) 44315 | 代理人： | 陈琳 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于薄膜太阳电池加工技术领域，一种薄膜刻划装置，包括：工作台；设置在工作台上的Y轴及Y轴滑板；安装在所述Y轴滑板上的定位夹具；设置在工作台上与Y轴垂直的X轴及X轴滑板；安装在所述X轴滑板上的调节机构；固定在所述调节机构上的刻划刀。本实用新型通过采用定位夹具的形式对薄膜电池样品进行定位，再配合沿直线轴滑动的刻划刀对样品进行刻划，将人为不确定因素对刻划结果的影响降到最低，有效保证了刻划效果；由于采用了手动刻划的操作模式，减少了设备成本和后期的维护成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 刻划 装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜刻划装置，包括工作台，其特征在于，还包括：设置在工作台上的Y轴及Y轴滑板；安装在所述Y轴滑板上的定位夹具；设置在工作台上与Y轴垂直的X轴及X轴滑板；安装在所述X轴滑板上的调节机构；固定在所述调节机构上的刻划刀。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
